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<!doctype html><html lang=en dir=auto><head><meta charset=utf-8><meta http-equiv=x-ua-compatible content="IE=edge"><meta name=viewport content="width=device-width,initial-scale=1,shrink-to-fit=no"><meta name=robots content="index, follow"><title>반도체의 원리, 종류, 소자, 역사, 산업. (MOSFET부터 RAM, FLASH, 그리고 Intel 4004까지. | Morgan's Blog</title><meta name=keywords content><meta name=description content=".1번 반도체란?.2번 반도체 소자의 종류.3번 기본소자 – 다이오드.4번 기본소자 – 트랜지스터…1번째 MOFSETMOFSET(Metal-Oxide Semiconductor Field-Effect Transistor) 금속-산화 반도체 전계효과 트랜지스터1번째 금속산화 반도체란? 도핑된 반도체 기판 위에 SiO2로 된 절연층과 금속을 적층시켜 제작한 구조. 2번째 MOSFET TransistorNPN의 구조입니다. 두 N을 각각 Drain과 Source라고 합니다. Source에는 Ground가, Drain에는 전압이 인가됩니다. 위에서 서술했듯이 Drain과 Source사이에 채널이 형성됩니다. 이때 Gate와 Back Gate(아랫쪽 P반도체)사이에 전압을 인가해 주면 게이트와 P사이에 전기장 형성, 이에 의해 전자가 게이트쪽으로 올라갑니다. 이 때문에 Drain과 Source 사이 전류가 흐를 수 있다."><meta name=author content="Me"><link rel=canonical href=http://blog.morgan.kr/posts/bandoceyi-weonri-jongryu-soja-yeogsa-saneob-mosfetbuteo-ram-flash-geurigo-intel-4004ggaji/><meta name=google-site-verification content="XYZabc"><meta name=yandex-verification content="XYZabc"><meta name=msvalidate.01 content="XYZabc"><link crossorigin=anonymous href=/assets/css/stylesheet.31527a12923607f33c1cac9636a2fa755f6ade7c55866bdb96e44c6bcaf6cfbb.css integrity="sha256-MVJ6EpI2B/M8HKyWNqL6dV9q3nxVhmvbluRMa8r2z7s=" rel="preload stylesheet" as=style><script defer crossorigin=anonymous src=/assets/js/highlight.f413e19d0714851f6474e7ee9632408e58ac146fbdbe62747134bea2fa3415e0.js integrity="sha256-9BPhnQcUhR9kdOfuljJAjlisFG+9vmJ0cTS+ovo0FeA=" onload=hljs.initHighlightingOnLoad()></script>
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